2023-03-10
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三星在年初的IEEE國際固態(tài)電路大會(ISSCC)上,公布3nm制造技術(shù)的一些細節(jié),包括類似全柵場效應(yīng)晶體管(GAAFET)結(jié)構(gòu),率先開啟先進工藝在技術(shù)架構(gòu)上的轉(zhuǎn)型。知名能源與電力媒體eenews報道稱,三星工廠已經(jīng)流片采用環(huán)繞柵極 (GAA) 晶體管架構(gòu)的3nm芯片,通過納米片(Nanosheet)制造出MBCFET(多橋通道場效應(yīng)管),可顯著增強晶體管性能,主要取代FinFET晶體管技術(shù)。 為了能夠從臺積電手中*到客戶,三星半導體最近幾年一直在積極宣傳GAA(Gate All Aroun
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