2022-10-25
4
南方財經(jīng)全媒體記者江月 上海報道EDA是否將制約半導(dǎo)體企業(yè)突破先進制程工藝?近期,市場十分關(guān)注EDA在復(fù)雜結(jié)構(gòu)、3納米或以下工藝的芯片設(shè)計中所扮演的角色。9月8日,位列全球EDA三巨頭之一的新思科技(Synopsys)在上海舉行開發(fā)者大會,該公司有關(guān)人士表示,應(yīng)該對成熟工藝產(chǎn)品的市占率加以重視,另外軟件將有助于突破“摩爾定律”對芯片性能的限制。 突破“卡脖子”限制 從8月15日起,由于美國商務(wù)部工業(yè)和安全局的新規(guī),金剛石和氧化鎵兩種半導(dǎo)體材料、GAAFET(全環(huán)繞柵極場效應(yīng)晶體管)所需的ECA
了解更多