2025-01-15
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晶圓制造核心材料 掩膜版,亦稱光罩,是微電子制造領(lǐng)域內(nèi)光刻工藝不可或缺的核心組件,其角色相當(dāng)于傳統(tǒng)攝影中的“底片”,扮演著承載精密圖形設(shè)計(jì)和技術(shù)知識(shí)產(chǎn)權(quán)信息的媒介角色。這一技術(shù)廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體生產(chǎn)、平板顯示制造、電路板生產(chǎn)及觸控屏產(chǎn)業(yè)等多個(gè)高科技領(lǐng)域。依據(jù)最終應(yīng)用領(lǐng)域的差異,掩膜版被細(xì)分為平板顯示掩膜版、半導(dǎo)體掩膜版、觸控掩膜版和電路板掩膜版等多個(gè)類別。其中,半導(dǎo)體掩膜版以其極高的工藝復(fù)雜度及占據(jù)約60%市場份額的龐大體量,成為了行業(yè)的焦點(diǎn)。 作為光刻過程中圖形
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